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磁控溅射镀膜设备
ST-MS1350磁控溅射镀膜机
ST-MS1350磁控溅射镀膜机旋转阴极装置与与业内通用平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高,可客制化的基板工件架结构定制,给客户产品摆放达到较大的利用空间;全自动一体的提拉升降的转架装置,大幅度减少机器开关门时间,大大提高了生产效率与工艺稳定性,工作范围广、能量均衡,高离化率,超稳定工作效率,低耗能等特点。
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ZX-10D/16MAX型电子枪枪头
我公司生产的ZX-10D型e型电子枪用于真空镀膜中的电子束蒸发镀膜。泛应用于:增透膜、介质膜、红外膜、滤光片、眼镜膜、光纤膜、高反镜、热/冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器等。 本公司电子枪因使用电磁石、经由电力来控制电子束角度,电子束偏转角为270°,可以垂直入射进甘场、使不易熔解的氧化物(SiO2、Ti2、Ta205、Nb205等)表面充分熔解、不易产生溅场现象、造成被镀物(基板)之污染。电子束蒸发能够很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均匀性,增加镀膜的一致性和重复性,薄膜易于控制。
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全自动可编程扫描系统
我司生产的全自动可编程扫描仪(以下简称扫描仪)是我公司新研制的专为电子枪配套的扫描仪。扫描仪巧妙的结合了模拟及数字电路并具有RS232通讯接口,使之能与计算机实现通讯,对镀膜设备实现自动化控制起到了不可缺少的作用。
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10KV1A E型电子枪
10KV1A E型电子枪
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ST-GL全自动霍尔离子源
本电源是采用国际数字控制技术研制而成。线路由变压器降压、整流滤波、大功率三极管调整及基准取样放大等组成本电源可以实现手动控制,并可以通过485通信接口及模拟量实现自动控制,操作简便,可同时控制阴极灯丝和阳极。本电源设有安全保护的程序,无论是在设备正常还是有故障的情况下,均能保证负载以及电源的安全使用。
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V300-10A霍尔离子源
中兴V300- 10A霍尔等离子体离子源,适合辅助镀膜工艺要求,其突出的特点是小型化,结构紧凑、易于拆装。在制造高质量的光学薄膜时它对改进膜的附着力、致密度、吸收度、折射率有所贡献。
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